“恒源祥·书画同源”首届全国书画名家学术邀请展将于１０月２６日在上海恒源祥香山美术馆举行首展并召开学术研讨会，随后将在国内部分省会城市进行巡展并举行相关的学术活动。

    此次展览由中国书法家协会展览中心与恒源祥（集团）有限公司联合主办，旨在引起当代书画界对“书画同源”理论重新认识和思考，不断提高书画家诗、书、画、印等综合艺术修养，促进当代书画艺术在互动中共同提升，谱写２１世纪中国书画艺术的璀璨画卷。

    此次展览共有５７位书画家应邀参展。参展作品共１１１幅，其中包括陈佩秋、冯其庸、王学仲、黄君实、刘曦林等书画界老一代艺术家以及当代实力派中青年书画家的作品。此外，刘曦林、冀燕、李毅、刘珺等１１位理论家提交了学术报告。

    著名美术评论家刘曦林表示，由于书与画的共性和中国文化的特殊性，历史上出现过很多同时是书法家和画家的人物。如吴昌硕、齐白石等，他们兼长书画有很多书画相通的心得体会。

    刘曦林认为，中国书画之内在联系及各自的独立性，中国书画相辅相成地同属美术格局，是中国传统文化的财富，也是中国造型艺术独立于世界艺林的重要因素。

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